Каталог
Отображение 1–20 из 170
View :
-
Пелликлы
Пелликл ASM14P-122-1017HFLC MLI
по запросуПелликл — это пленка, служащая для защиты топологического рисунка хромового фотошаблона от возможных дефектов (загрязнений в виде частиц), обычно наносится на тонкие фотошаблоны с обеих сторон.
-
Пелликлы
Пелликл ASM36 602 1017 HFLC
по запросуПелликл — это пленка, служащая для защиты топологического рисунка хромового фотошаблона от возможных дефектов (загрязнений в виде частиц), обычно наносится на тонкие фотошаблоны с обеих сторон.
-
-
Проявители
Проявитель П-236А-МФ
по запросуПроявитель безметальный для позитивных фоторезистов П-236А-МФ
ТУ-20.59.12-024-18567185-2019 5кг
-
Полировальные суспензии
Суспензия полировальная AEP Т800
по запросуСуспензия полировальная AEP T800 — это профессиональное средство для полировки поверхностей, которое обеспечивает превосходный результат и высокое качество обработки. AEP T800 — это полировальная суспензия, которая используется для обработки поверхностей перед нанесением покрытия. Она состоит из абразивных частиц, которые удаляют неровности и загрязнения с поверхности, а также улучшают адгезию покрытия к поверхности. Суспензия AEP T800 может быть использована для полировки различных материалов, включая металл, пластик и дерево.
-
Фотошаблонные заготовки
Заготовка шаблона кварцевая SBN- 6025-1Т-FЕР171МЕ SnS Теchnology
по запросуФотошаблонные заготовки предназначены для изготовления фотошаблонов, применяемых в технологии производства интегральных схем и других изделий микроэлектроники.
-
Фотошаблонные заготовки
Заготовка шаблона кварцевая SBN-6025-1T-FEP171VT SnS Technology
по запросуФотошаблонные заготовки предназначены для изготовления фотошаблонов, применяемых в технологии производства интегральных схем и других изделий микроэлектроники.
-
Фотошаблонные заготовки
Заготовка фотошаблона кварцевая EHQ 5009 5Т АR3 FЕР171
по запросуФотошаблонные заготовки предназначены для изготовления фотошаблонов, применяемых в технологии производства интегральных схем и других изделий микроэлектроники.
-
Фотошаблонные заготовки
Заготовка фотошаблона HOYA кварцевая EHQ 5009
по запросуЗаготовка фотошаблона HOYA кварцевая EHQ 5009 5Т АR3 FЕР171 –U 5″х5″х0,09″
Фотошаблонные заготовки предназначены для изготовления фотошаблонов, применяемых в технологии производства интегральных схем и других изделий микроэлектроники.
-
Импортные
Фоторезист Megaposit SPR 220-4,5 (3,785л)
по запросуНоминальный минимальный размер элемента: 0,350 мкм
Доза облучения для 0,25 мкм — 165 мДж/см2
Доза облучения для 0,40 мкм — 245 мДж/см2
Толщина слоя фоторезиста: от 0,7 до 2,3 мкм
Температура сушки: 90-100 град Цельсия
Время сушки: 90 секРекомендуемые проявители: MF-501 (0,24N), MF CD-26 (0,26N)
Упаковка: темное стекло -
Импортные
Фоторезист с высоким разрешением MEGAPOSIT SPR 955-0,7 (3,785л)
по запросу- Толщина, мкм 0,7-3,0
- Длина волны экспонирования i-линия
- Проявитель MF-CD-26, 0.24-0.26N
- Сниматель Cтанд. сниматели
