Фоторезист MICROPOSIT S1813

Рекомендации по применению*: Подготовка поверхности Для максимальной адгезии поверхность рекомендуется обработать гексаметилдисилазаном. Нанесение Распределить 1-2 мл фоторезиста на поверхности и дать растечься в течение 2 сек максимум. Привести во вращение центрифугу. Центрифуга должна обеспечивать достижение скорости вращения 3000 об/мин максимум за 0,3 сек. Время центрифугирования в диапазоне от 3500 до 6000 об/мин составляет примерно 25 секунд.   Зависимость толщина пленки от скорости вращения центрифуги.   Предварительная сушка Рекомендуются горячая плита 115 °С, 60 сек. Можно использовать термошкаф при следующих параметрах сушки: Термошкаф: Конвекционный тип с принудительной вентиляцией. Температура: 90°- 100°C с контролем температуры в пределах ±1°C Время выдержки: 30 мин. Экспонирование Фоторезисты оптимизированы для проекционного экспонирования на длине волны 436 нм, но может использоваться интегральное экспонирование в диапазоне 350 – 450 нм. Проявление Рекомендуется буферный проявитель УПФ-1Б для максимального контроля процесса. Удаление Фоторезист MICROPOSIT S1813 может быть удален, используя сниматель СПР-01Ф или кислородную плазму. Растворитель Экологически безопасный растворитель 2-метокси-1-метилэтилацетат Характеристики S1813 S1818 Вязкость при 20+10 С, сСт 30 + 5% 45 + 5% Светочувствительность, мдж/см2 150 + 5% 200+5% Разрешающая способность, мкм 0,5 0,8 Стойкость в проявителе, мин >60 >60 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б УПФ-1Б Меры предосторожности В соответствии с сертификатом безопасности Хранение Хранить в сухом помещении при температурах 10-21°C в закрытых коричневых стеклянных бутылках. Гарантийный срок хранения – 6 месяцев от даты розлива.   * Информация носит исключительно ознакомительный характер, ООО "Клотис" тестирований материалов не проводит.