Фоторезист ФПН-20-ИЗО
по запросу
Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным фоторезистом, однако, способен к обращению изображения с образованием негативного образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии.
| No | Наименования показателя | Норма показателя | Норма показателя |
| 1 | Вязкость | сСт | 17-20 |
| 2 | Толщина сходная | мкм | 1,8-2,2 |
| 3 | Чувствительность | мдж/см2 | 30-60 |
| 4 | Стойкость в проявителе позитивного изображения, не менее | мин | 30 |
| 5 | Проявитель | УПФ-1Б | |
Похожие товары
-
-
-
Фоторезисты
Фоторезист Megaposit SPR 220-4,5 (3,785л)
по запросуНоминальный минимальный размер элемента: 0,350 мкм
Доза облучения для 0,25 мкм — 165 мДж/см2
Доза облучения для 0,40 мкм — 245 мДж/см2
Толщина слоя фоторезиста: от 0,7 до 2,3 мкм
Температура сушки: 90-100 град Цельсия
Время сушки: 90 секРекомендуемые проявители: MF-501 (0,24N), MF CD-26 (0,26N)
Упаковка: темное стекло
