Фоторезист ФПН-20-ИЗО
по запросу
Аналог фоторезиста AZ-5214
Фоторезист ФПН-20-ИЗО является позитивным фоторезистом, однако, способен к обращению изображения с образованием негативного образа маски. Предназначен для использования в технике взрывной литографии.
| No | Наименования показателя | Норма показателя | Норма показателя |
| 1 | Вязкость | сСт | 17-20 |
| 2 | Толщина сходная | мкм | 1,8-2,2 |
| 3 | Чувствительность | мдж/см2 | 30-60 |
| 4 | Стойкость в проявителе позитивного изображения, не менее | мин | 30 |
| 5 | Проявитель | УПФ-1Б | |
Похожие товары
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ®-1518 3.785 л
по запросуФоторезист AZ® 1518 — тонкий позитивный резист с высоким потенциалом разрешения для влажного травления.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Merck Performance Materials
Фоторезист AZ 4533 – 3.785 л
по запросуAZ® 4533 — позитивный резист с оптимизированной адгезией для влажного травления.
Производитель: Merck Performance Materials
-
Фоторезисты Dow
Фоторезист MICROPOSIT Microposit Ultra-I
по запросуФоторезист DUPONT Microposit ULTRA-I 123-0.8 (Gallon=3,785 литров)
Производитель: Dow Chemical Company
-
Фоторезисты Dow
Фоторезист с высоким разрешением MEGAPOSIT SPR 955-0,7 (3,785л)
по запросуФоторезист MEGAPOSIT™ SPR™955 CM-0.7 / 0.7 µm @ 3000 rpm
Производитель: Dow Chemical Company
-
Фоторезисты Dow
Фоторезист с высоким разрешением MEGAPOSIT SPR 955 CM-1.4 (3,785 л)
по запросуПроизводитель: Dow Chemical Company
