Россия запускает серийное производство первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нм
На форуме «Микроэлектроника 2025» в России подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования — фотолитографа с разрешением 350 нм. Документ заключили Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) и компания «Отраслевые решения», входящая в группу «Элемент».
О событии сообщила пресс-служба производителя микроэлектроники «Микрон», также входящего в «Элемент».
Что за установка?
Разработанный в ЗНТЦ фотолитограф предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на кремниевую пластину при производстве сверхбольших интегральных схем с топологической нормой 350 нм.
Устройство станет основой для модернизации текущих производств и оснащения новых линий в области микроэлектроники. Разработка велась в сотрудничестве с белорусским предприятием ОАО «Планар».
Что входит в договор?
Соглашение охватывает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования. Это первый шаг в переходе от единичных экземпляров к серийному производству российских фотолитографов.
Цитата
Анатолий Ковалев, гендиректор АО «ЗНТЦ»:
«Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. Разработка завершена, характеристики установки подтверждены в производственной среде — мы переходим к серийному выпуску. Это первый шаг к созданию линейки российских литографов, в том числе с разрешением 90 нм.»
Почему это важно?
Фотолитограф стал частью госпрограммы по локализации производства микросхем в России. Цель — создание технологической цепочки для чипов с нормами от 350 до 130 нм.
Этот шаг снижает зависимость от зарубежного оборудования и открывает перспективы для развития российской микроэлектронной промышленности в условиях технологического суверенитета.